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光催化氧化除臭设备的处理机理
光催化氧化除臭设备机制主要包括两方面:一是高压放电等离子体的过程，高能量产生的高频放电，释放一些有害的气体分子化学能，使其成为无害的元素原子或分子;第二,由于高压放电等离子体,其中包含大量的高能电子,积极的和消极的离子、激发态粒子和有很强的氧化自由基,粒子和气体分子碰撞我的活动部分,在电场的作用下,激发态的气味分子。当气味分子获得的能量超过其分子键的结合能时，臭味分子的化学键就会分解并直接分解成单个或无害的单个原子分子。同时，大量的活性自由基，如OH,HO2，·O和O3，被高度氧化，与有害气体分子发生化学反应，产生无害的产物。
